真空吸筆

產品屬性

• 適用於2吋, 4吋, 6吋, 8吋, 12吋晶片

• 共用型: 2-6吋, 6-8吋

• 專用型: 12吋晶片 大晶片專用

• 可選項: 導靜電防護材質，耐高溫製程產品，可更換筆頭

• 各筆頭，與筆身皆可共用

• 另有客製化筆頭: 如可彎角吸筆頭, 客製特規吸筆真空道筆頭

應用領域

• 主要用途：晶片之拿取輔助工具

• 適用領域: 半導體晶片、砷化鎵晶片、太陽能晶片、紅藍寶石晶片、玻璃基板、各種平面晶片基板

• 適用領域: 全潔淨制程, CMP, Etching, Lithography(Photo)

產品優勢

• • 提升制程良率：晶片之拿取輔助工具, 避免人為取片之污染風險

  • 提升制程良率：避免人為取片時產生接觸點面異常蝕刻

  • 另開發有乾溼制程多用途可攜式吸筆組, CMP 製程部門專用