準分子雷射應用

準分子雷射(Excimer Laser)加工應用已相常廣泛也很成熟. 屬於氣體雷射, 然而準分子雷射在特殊加工應用有很多優勢, 可在維護成本上則不易節省, 我司開發Excimer Laser repair雷射源維修整新技術, 協助客戶在使用上的成本得以節省, 也引進日本準分子雷射剝離系統(Excimer Laser Lift-off), ELA準分子雷射氣體, 準分子光學鏡片等

在相關零件及耗材供應市埸, 與維修服務於JPSA LED LLO系統, 及JSW ELA準分子雷射回火系統等, 此類應用也將於下世代可撓折的柔性顯示器;有機半導原件;感測器;Mini Led / Micro Led, Laser Lift Off (LLO) / Debonding 為主要制程設備

應用領域:

• 半導體領域：於黃光區曝光製程、雷射晶圓清洗、微結構加工、Laser Debonding 等

• 面板顯示器領域：ELA(Excimer Laser Annealing) 準分子雷射回火製程, 可撓折材料LLO(Laser Lift-off) , UV SLA(UV solid state Laser Annealing) 紫外光固態雷射回火製程

• LED：準分子雷射剝離(Excimer Laser Lift-off), Mini Led, Micro LED

• LED : Laser Cutting, Laser Scribing, Laser Drilling, Laser Ablation, Edge deletion.

• 醫學應用：視力矯正手術LASIK。

• 汽車工業：金屬表面處理

• 其他：清潔, 精密鑽孔, 3D Laser Micromachining / 3D雷射微細加工等

其使用波長分類是屬於紫外光(UV)的氣體雷射，依使用氣體不同有不同的波長，

常見的主要為XeCl(308nm)，KrF(248nm)與ArF(193nm)等, 另還有少見的351nm, 157nm。然EUV 13.5nm雖於此波段, 但其是另一種高端領域的雷射光源